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五溫區CVD一體機

發(fā)布時(shí)間:2023-11-10  瀏覽次數:537

設備簡(jiǎn)介:

  化學(xué)氣相沉積(CVD)是指化學(xué)氣體或在基質(zhì)表面反應合成涂層或米材料的方法,是半導體工業(yè)中應用最為廣泛的用來(lái)沉積薄膜材料的技術(shù),包括大范圍的絕緣材料,以及大多數金屬材料和金屬合金材料。為此我們研發(fā)成套的CVD鍍膜系統,適用于各大高校材料實(shí)驗室、科研院所、環(huán)??茖W(xué)等領(lǐng)域;



  


高溫CVD一體機由以下幾部分組成。

▲燒結系統;▲電控系統;▲上蓋開(kāi)啟系統;▲真空系統;



配置詳情

設備特點(diǎn):

1、控制穩定可靠,操作方便。

2、采用先進(jìn)的PID自學(xué)習模糊控制,控溫精度高,保持在±1℃。

3、爐襯采用高純氧化鋁輕質(zhì)纖維材料,保溫效果更好,節能降耗。

4、數據存儲功能,可保存燒結的重要參數,時(shí)長(cháng)達30天之久(每天開(kāi)機8小時(shí))。

5、配方功能,可預存配方100條以上。

6、五個(gè)溫區獨立控制,使客戶(hù)燒結工藝更加復雜多樣。

7、聯(lián)網(wǎng)功能,通過(guò)RJ45接口,采用TCP/IP協(xié)議,可以讓系統與上位機相連(上位機需安裝相應軟件)。

產(chǎn)品型號

NBD-T1200-100T5G4F

供電電源

三相380V 50HZ

額定功率

10KW

測溫元件類(lèi)型

K型熱電偶 200mm

最高溫度

1150℃

加熱溫區尺寸

Φ150*1135mm

爐管尺寸

Φ100*1600mm

爐體尺寸

長(cháng)1900*高1250*深900mm

推薦升溫速率

10℃/min

重量

350kg

設備細節

       

控制系統

 

1、燒結工藝曲線(xiàn)設置:動(dòng)態(tài)顯示設置曲線(xiàn),設備燒結可預存多條工藝曲線(xiàn),每條工藝曲線(xiàn)可自由設置;
  2、可預約燒結,實(shí)現無(wú)人值守燒結工藝曲線(xiàn)燒結;
  3、實(shí)時(shí)顯示燒結功率電壓等信息并記錄燒結數據,并可導出實(shí)現無(wú)紙記錄;
  4、具有實(shí)現遠程操控,實(shí)時(shí)觀(guān)測設備狀態(tài);
  5、溫度校正:主控溫度和試樣溫度的差值,燒結全程進(jìn)行非線(xiàn)性修正。

溫度精度

±1℃

流程控制畫(huà)面


服務(wù)支持

1年質(zhì)保,提供終身支持(保修范圍內不包括易耗部件,例如爐管和O形圈等) 


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