發(fā)布時(shí)間:2024-04-28 瀏覽次數:219
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設備簡(jiǎn)介: 化學(xué)氣相沉積(CVD)是指化學(xué)氣體或蒸汽在基質(zhì)表面反應合成涂層或納米材料的方法,是半導體工業(yè)中應用非常廣泛的用來(lái)沉積薄膜材料的技術(shù),包括大范圍的絕緣材料,以及大多數金屬材料和金屬合金材料。為此我們研發(fā)成套的CVD鍍膜系統,適用于各大高校材料實(shí)驗室、科研院所、環(huán)??茖W(xué)等領(lǐng)域。
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設備特點(diǎn): 1、采用高純氧化鋁材質(zhì)爐管,耐腐蝕耐高溫性能優(yōu)越; 2、高純度Al2O3纖維耐火保溫材料,保溫效果突出,有效地降低了設備功耗; 3、爐體采用雙層風(fēng)冷結構工藝,有助于快速降低殼體表面溫度; 4、采用智能PID模糊溫度控制,7英寸觸摸屏集中操控,可直觀(guān)顯示“時(shí)間-溫度”曲線(xiàn);
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設備名稱(chēng) |
高溫CVD系統 |
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T-max |
1500℃ | |||||||
電源 |
單相220V 50HZ |
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額定功率 |
6KW |
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測溫元件類(lèi)型 |
S型熱電偶φ8*205mm |
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Tmax |
1450℃ |
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加熱溫度區尺寸 |
第一個(gè)溫度區:Φ100*225mm 第二個(gè)溫度區:Φ100*225mm |
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爐管尺寸 |
Φ100*1200mm |
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外形尺寸 |
長(cháng)1414m×高720mm×深514mm |
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加熱速率 |
1℃/H-20℃/Min |
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重量 |
350kg |
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控制系統 |
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1、燒結工藝曲線(xiàn)設置:動(dòng)態(tài)顯示設置曲線(xiàn),設備燒結可預存多條工藝曲線(xiàn),每條工藝曲線(xiàn)可自由設置; 2、可預約燒結,實(shí)現無(wú)人值守燒結工藝曲線(xiàn)燒結; 3、實(shí)時(shí)顯示燒結功率電壓等信息并記錄燒結數據,并可導出實(shí)現無(wú)紙記錄; 4、具有實(shí)現遠程操控,實(shí)時(shí)觀(guān)測設備狀態(tài); 5、溫度校正:主控溫度和試樣溫度的差值,燒結全程進(jìn)行非線(xiàn)性修正
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溫度精度 |
±1℃ |
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加熱元件 |
抗酸耐腐性能優(yōu)越的高純硅碳棒 |
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密封系統 |
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真空度:10Pa(機械泵) |
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壓力測量與監控 |
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采用機械壓力表,表外殼為氣密型結構,能有效保護內部機件免受環(huán)境影響和雜物侵入,同時(shí)具有較強的耐腐蝕和耐高溫的能力。
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供氣系統 |
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采用浮子流量計控制氣體流速,與設備集成為一體,且出廠(chǎng)前已進(jìn)行漏氣測試工作。
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凈重 |
350kg |
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設備使用注意事項 |
1、設備爐膛溫度≥300℃時(shí),禁止打開(kāi)爐膛,避免受到傷害; 2、爐膛連續使用產(chǎn)生的輕微裂紋屬于正?,F象,不影響設備的正常使用; |
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服務(wù)支持 |
一年有限保修,提供終身支持(保修范圍內不包括易耗部件,例如處理管和O形圈,請在下面的相關(guān)產(chǎn)品處訂購更換件。) |