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1500℃ CVD系統

發(fā)布時(shí)間:2024-04-28  瀏覽次數:219

設備簡(jiǎn)介:

 化學(xué)氣相沉積(CVD)是指化學(xué)氣體或蒸汽在基質(zhì)表面反應合成涂層或納米材料的方法,是半導體工業(yè)中應用非常廣泛的用來(lái)沉積薄膜材料的技術(shù),包括大范圍的絕緣材料,以及大多數金屬材料和金屬合金材料。為此我們研發(fā)成套的CVD鍍膜系統,適用于各大高校材料實(shí)驗室、科研院所、環(huán)??茖W(xué)等領(lǐng)域。





設備特點(diǎn):

 1、采用高純氧化鋁材質(zhì)爐管,耐腐蝕耐高溫性能優(yōu)越;

 2、高純度Al2O3纖維耐火保溫材料,保溫效果突出,有效地降低了設備功耗;

 3、爐體采用雙層風(fēng)冷結構工藝,有助于快速降低殼體表面溫度;

 4、采用智能PID模糊溫度控制,7英寸觸摸屏集中操控,可直觀(guān)顯示“時(shí)間-溫度”曲線(xiàn);

設備名稱(chēng)

高溫CVD系統

T-max

1500℃

電源

單相220V 50HZ

額定功率

6KW

測溫元件類(lèi)型

S型熱電偶φ8*205mm

Tmax

1450℃

加熱溫度區尺寸

第一個(gè)溫度區:Φ100*225mm  第二個(gè)溫度區:Φ100*225mm

爐管尺寸

Φ100*1200mm

外形尺寸

長(cháng)1414m×高720mm×深514mm

加熱速率

1℃/H-20℃/Min

重量

350kg

控制系統

 

 1、燒結工藝曲線(xiàn)設置:動(dòng)態(tài)顯示設置曲線(xiàn),設備燒結可預存多條工藝曲線(xiàn),每條工藝曲線(xiàn)可自由設置;

 2、可預約燒結,實(shí)現無(wú)人值守燒結工藝曲線(xiàn)燒結;

 3、實(shí)時(shí)顯示燒結功率電壓等信息并記錄燒結數據,并可導出實(shí)現無(wú)紙記錄;

 4、具有實(shí)現遠程操控,實(shí)時(shí)觀(guān)測設備狀態(tài);

 5、溫度校正:主控溫度和試樣溫度的差值,燒結全程進(jìn)行非線(xiàn)性修正

溫度精度

±1℃

加熱元件

 

抗酸耐腐性能優(yōu)越的高純硅碳棒

密封系統

真空度:10Pa(機械泵)

壓力測量與監控

采用機械壓力表,表外殼為氣密型結構,能有效保護內部機件免受環(huán)境影響和雜物侵入,同時(shí)具有較強的耐腐蝕和耐高溫的能力。

供氣系統

    

采用浮子流量計控制氣體流速,與設備集成為一體,且出廠(chǎng)前已進(jìn)行漏氣測試工作。

凈重

350kg

設備使用注意事項

 1、設備爐膛溫度≥300℃時(shí),禁止打開(kāi)爐膛,避免受到傷害;

 2、爐膛連續使用產(chǎn)生的輕微裂紋屬于正?,F象,不影響設備的正常使用;

服務(wù)支持

一年有限保修,提供終身支持(保修范圍內不包括易耗部件,例如處理管和O形圈,請在下面的相關(guān)產(chǎn)品處訂購更換件。)


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