發(fā)布時(shí)間:2022-10-29 瀏覽次數:1029
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設備簡(jiǎn)介: 化學(xué)氣相沉積(CVD)是指化學(xué)氣體或蒸汽在基質(zhì)表面反應合成涂層或納米材料的方法,是半導體工業(yè)中應用最為廣泛的用來(lái)沉積薄膜材料的技術(shù),包括大范圍的絕緣材料,以及大多數金屬材料和金屬合金材料。為此我們研發(fā)成套的CVD鍍膜系統,適用于各大高校材料實(shí)驗室、科研院所、環(huán)??茖W(xué)等領(lǐng)域; 本設備基于新能源領(lǐng)域客戶(hù)需求定制,反應氣體包括易燃易爆及有毒有害氣體,及通過(guò)氣相發(fā)生器氣化的液體。多路質(zhì)量流量計精確控制進(jìn)氣量。高精度壓力傳感器、電磁閥、氣體檢測儀、報警器及尾氣處理罐,確保工作過(guò)程的安全、高效及無(wú)害化排放。
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技術(shù)參數:
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1.通過(guò)高精度氧分析儀確保無(wú)氧工作環(huán)境; 2.物料在基于旋轉擺振結構的異形石英腔內,能夠在穩定均勻的溫場(chǎng)內,最大程度地與反應氣體充分接觸; 3.獨有懸掛式氣相發(fā)生器,能夠在工作腔擺振的同時(shí),始終保持水平穩定輸出; 4.多路質(zhì)量流量控制器,可精確控制氣體流量; 5.高密封性連接工藝,確??扇夹詺怏w及有毒有害氣體無(wú)任何泄露,高靈敏度壓力傳感器及電磁閥可保證工作腔室內的壓力始終在設定范圍; 6.易燃易爆及有毒有害氣體檢測儀與設備聯(lián)動(dòng),可及時(shí)獲取實(shí)時(shí)數據并采取相應閉合措施,同時(shí),兩個(gè)報警儀在超出設定警戒值時(shí)發(fā)出預警提示; 7.工作腔室排出的尾氣通過(guò)尾氣處理罐進(jìn)行無(wú)害化處理。 |
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產(chǎn)品型號 |
NBD-RT1200-120T2D5ZYW-N |
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供電電源 |
三相380V 50HZ |
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控溫精度 |
±1℃ |
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額定功率 | 8KW | ||||||||
測溫元件類(lèi)型 |
K型熱電偶 250mm |
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最高溫度 |
1100℃ |
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加熱溫區尺寸 |
φ150*430mm |
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爐管材質(zhì) |
高純石英 |
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爐管容積 |
5L |
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樣品有效容積 |
500ml |
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傾斜角度 |
-20度(出料)~3度(進(jìn)料) |
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爐管轉速 |
0.1~12.6轉/每分鐘 |
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爐體尺寸 |
長(cháng)1550×深830×高1360mm(含乙炔報警器2160mm) |
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推薦升溫速率 |
10℃/min |
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重量 |
約260KG |
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控制系統 |
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1、燒結工藝曲線(xiàn)設置:動(dòng)態(tài)顯示設置曲線(xiàn),設備燒結可預存多條工藝曲線(xiàn),每條工藝曲線(xiàn)可自由設置; |
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