設備簡(jiǎn)介：
  均溫氧化擴散爐應用于半導體器件、分立器件、光電子器件、電力電子器件、太陽(yáng)能電池及大規模集成電路制造等領(lǐng)域對晶片進(jìn)行擴散、氧化、退火、合金及燒結等工藝，可用于2-8英寸工藝尺寸。

設備特點(diǎn)：

 1.溫場(chǎng)均勻，恒溫區長(cháng)度及精度：300～1250mm  800~1200℃±1℃

 2.具有強大的軟件功能，NBD-101EP嵌入式操作系統，用戶(hù)可以方便地修改工藝控制參數，并可隨時(shí)顯示各種工藝狀態(tài)；配有故障自診斷軟件； 
 3.程序可以實(shí)現手/自動(dòng)工作，在停電或中途停機后，再次啟動(dòng)可以根據工藝手動(dòng)升溫，節省工藝時(shí)間； 
 4.具有多種工藝管路，可供用戶(hù)方便選擇； 
 5.冷端檢測環(huán)境溫度進(jìn)行溫度補償，避免環(huán)境溫度變化，對爐膛溫度產(chǎn)生影響，避免層間干擾； 

 6.可存儲多組PID參數供系統運行調用功能，具有多點(diǎn)溫度補償
 7.氣體流量采用數字化精確控制，采用模擬信號閉環(huán)控制，強弱電分開(kāi)，各種數據交互采用標準總線(xiàn)，提高抗干擾能力，保證數據安全；氣體打開(kāi)具有緩啟動(dòng)功能； 
 8.具有多種報警功能及安全保護功能；
 9.恒溫區自動(dòng)調整，串級控制，可準確控制反應管的實(shí)際工藝溫度； 
 10.壓力自動(dòng)調整技術(shù)，將壓力參數引入晶體硅氧化工藝，有效減小了尾部排風(fēng)對工藝的干擾，減小由排風(fēng)引起的工藝波動(dòng)。

型號

可配工藝管外徑

爐管外徑152mm   適用于3＂；爐管外徑252mm   適用于6＂；

爐管外徑300mm   適用于8＂

溫度控制范圍

300~1150 ℃

恒溫區長(cháng)度及精度

300～1250mm（依客戶(hù)要求定）  300~800 ℃±1.5℃, 800~1100 ℃±1℃

可控升降溫速率

升溫速率：≦15℃/min  降溫速率≦5℃/min

加熱區個(gè)數

3區，4區，5區，6區（依客戶(hù)要求定）

送料方式

手動(dòng)送料

冷卻系統

水冷2-4Kgf/cm2，8L/min；＋上接排風(fēng)冷≈25m3/min；

軸向溫場(chǎng)分布

徑向溫場(chǎng)分布

控制系統

1.燒結工藝曲線(xiàn)設置：動(dòng)態(tài)顯示設置曲線(xiàn)，設備燒結可預存多條工藝曲線(xiàn)，每條工藝曲線(xiàn)可自由設置；

加熱腔體

采用優(yōu)質(zhì)加熱絲：KANTHAL及HRE

絕熱材料：晶體纖維等

絕緣子：高純剛玉，間距依據溫場(chǎng)調節

端口過(guò)渡環(huán)：氧化鋁纖維真空成型。

溫區：3段、4段、5段、6段

真空密封系統

真空度：≤10Pa（機械泵）

供氣系統

采用質(zhì)子流量計控制氣體流速，與設備集成為一體；

可選配項目

1、出料口排毒氣柜；

2、凈化出料臺；

3、自動(dòng)石英漿推拉舟機構

設備使用注意事項

1、裝取樣片必須帶石棉手套，使用石英器件小心打碎；

2、選擇合適的石英舟，取出清潔好的石英托板和石英拉鉤；

3、安裝樣片插入到石英舟的槽內，用石英拉鉤將石英舟推入爐管到恒溫區；

4、爐管內壓力不得超過(guò)0.15MPa（絕對壓力），以防止壓力過(guò)大引起危險；

5、高真空下使用時(shí)），設備使用溫度不得超過(guò)1000℃；

服務(wù)支持

一年有限保修，提供終身支持（保修范圍內不包括易耗部件，例如爐管和密封圈等）