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多溫區管式爐

發(fā)布時(shí)間:2020-07-07  瀏覽次數:3167



 

設備簡(jiǎn)介:

多溫區CVD系統一體爐,供氣和真空系統靈活組合,滿(mǎn)足各類(lèi)薄膜沉積,是半導體工業(yè)中應用最為廣泛的用來(lái)沉積薄膜材料的技術(shù),包括大面積的絕緣材料,以及大多數金屬材料和金屬合金材料。諾巴迪成套的CVD鍍膜系統,適用于各大高校材料實(shí)驗室、科研院所、環(huán)??茖W(xué)等領(lǐng)域。   

 




 

配置詳情


設備特點(diǎn)

 1、采用高純石英或不銹鋼材質(zhì)爐管,耐腐蝕耐高溫性能優(yōu)越;

 2、高純度Al2O3纖維耐火保溫材料,保溫效果優(yōu)越,降低設備功耗;

 3、爐體采用雙層風(fēng)冷結構工藝,自動(dòng)抬升系統開(kāi)啟上蓋;

 4、燒結工藝曲線(xiàn)設置:動(dòng)態(tài)顯示設置曲線(xiàn),設備燒結可預存多條工藝曲線(xiàn),每條工藝曲線(xiàn)可自由設置;
 5、可預約燒結,實(shí)現無(wú)人值守燒結工藝曲線(xiàn)燒結;
 6、實(shí)時(shí)顯示燒結功率電壓等信息并記錄燒結數據,并可導出實(shí)現無(wú)紙記錄;
 7、具有實(shí)現遠程操控,實(shí)時(shí)觀(guān)測設備狀態(tài);
 8、溫度校正:主控溫度和試樣溫度的差值,燒結全程進(jìn)行非線(xiàn)性修正 

 9、一體化設備包含多路供氣系統,多溫區加熱系統和高真空系統;

產(chǎn)品溫區

三溫區

四溫區

五溫區

六溫區

爐管尺寸

Φ25/Φ50/Φ60/Φ80/Φ100*1600mm

工作溫度

≤1150℃

加熱區選擇

(可定制)

200mm*3

200+300+200mm

200+400+200mm

300mm*3

300+400+300mm

200mm*4

200+300+300+200mm

200+400+400+200mm

300mm*4

300+400+400+300mm

200mm*5

300mm*5

 

200mm*6

300mm*6

 

升溫速率

≤20℃/s

電氣規格

AC380V 6~10KW

AC380V 8~14KW

AC380V 10~15KW

AC380V 12~18KW

氣體系統(可選購)

浮子或質(zhì)子

管道示意圖


 

進(jìn)氣接口數量

2、3、4(多路可選)

流量范圍

20-250/20-800ml/min......(多量程可選)

50/100/200/500sccm......(多量程可選)

工作壓差范圍

0-0.15MPa

低真空系統(可選購)

真空泵型號

NBD-3C/NBD-4C

抽氣速率

3L/s或4L/s

進(jìn)排氣口尺寸

KF16/25

系統真空

3~5Pa(真空泵極限真空6.2*10-2Pa)

工作環(huán)境溫度

5-40℃

電氣規格

AC220V

高真空系統(可選購)

真空泵型號

NBD-103(A)

NBD-103(B)

抽氣速率

110L/s

600L/s

真空測量計

復合真空計

系統真空

4.310^-3Pa

6*10^-4Pa

工作溫度

5-40℃

 

電氣規格

AC 220V

AC 380V

 

* 支持非標定做,更多型號,歡迎來(lái)電垂詢(xún)400-000-3746

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