上海大學(xué)潘老師帶領(lǐng)課題小組成員蒞臨我公司參觀(guān)考察，由我公司創(chuàng )始人徐曉冬教授親自接待。

  潘老師對我公司的PECVD設備的具體參數做了詳細了解，對該設備在演示過(guò)程中的出色表現給予了充分肯定。

PECVD簡(jiǎn)介：

  該產(chǎn)品是由固態(tài)等離子源、氣體質(zhì)子流量控制系統、襯底控溫系統、真空系統組成，采用集中總線(xiàn)控制技術(shù)的諾巴迪操作軟件。適用于室溫至1200℃條件下進(jìn)行SiO2、SiNx薄膜的沉積，同時(shí)可實(shí)現TEOS源沉積，SiC膜層沉積以及液態(tài)氣態(tài)源沉積其它材料，尤其適合于有機材料上高效保護層膜和特定溫度下無(wú)損傷鈍化膜的沉積。