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PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統

發(fā)布時(shí)間:2020-04-10  瀏覽次數:3022


設備簡(jiǎn)介:

該產(chǎn)品是由固態(tài)等離子源、氣體質(zhì)子流量控制系統、襯底控溫系統、真空系統組成,采用集中總線(xiàn)控制技術(shù)的諾巴迪操作軟件。適用于室溫至1200℃條件下進(jìn)行SiO2、SiNx薄膜的沉積,同時(shí)可實(shí)現TEOS源沉積,SiC膜層沉積以及液態(tài)氣態(tài)源沉積其它材料,尤其適合于有機材料上高效保護層膜和特定溫度下無(wú)損傷鈍化膜的沉積。





 

 

 

 

 



配置詳情

1. 清洗鍍膜一氣呵成,杜絕二次污染;

2. 上開(kāi)啟式結構,方便觀(guān)察試樣;

3. 產(chǎn)品采用全自動(dòng)控制方式,觸摸屏,數字化顯示;

4. 設備一體化程度高; 

5. 穩定的射頻電源,均勻的溫度分布,提高成膜質(zhì)量;

產(chǎn)品型號

NBD-PECVD1200-80TI

電氣規格

AC220V    4KW

可達溫度

1200 ℃

連續溫度

1150 ℃

可達加熱速率

≤  20 ℃/分鐘

射頻電源

500W   13.56MHz

爐管尺寸

Φ80*1200mm

沉積示意圖

 

如圖所示:此為該設備沉積過(guò)程中的示意圖

控制系統

 

1.NBD-101EP嵌入式操作系統中英文互換圖形界面,7寸真彩觸屏輸入,智能式人機對話(huà)模式,實(shí)時(shí)加熱功率顯示,非線(xiàn)性式樣溫度修正;實(shí)驗報告自主生成,實(shí)驗數據無(wú)限次導出。

2.實(shí)驗過(guò)程更加直觀(guān),操作更加便捷;

3.具有超溫報警、斷偶提示、漏電保護等功能。

溫度精度

+/- 1 ℃

加熱元件

 

Mo摻雜的Fe-Cr-Al合金

密封系統

 

 

 

真空度:≤10Pa(機械泵)

壓力測量與監控

 

采用數顯真空計,可使設備真空度更加直觀(guān),實(shí)驗結果更加準確。

供氣系統

采用兩路質(zhì)子流量計精確控制氣體流速,與設備集成為一體;

凈重

360KG

設備使用注意事項

1. 設備爐膛溫度≥300℃時(shí),禁止打開(kāi)爐膛,避免受到傷害;

2. 設備使用時(shí),爐管內壓力不得超過(guò)0.125MPa(絕對壓力),以防止壓力過(guò)大造成設備損壞;

3. 真空下使用時(shí),設備使用溫度不得超過(guò)800℃。

   4. 供氣鋼瓶?jì)炔繗鈮狠^高,向爐管內通入氣體時(shí),氣瓶上必須安裝減壓閥,建議在選購試驗用小壓力減壓閥,減壓閥量程為0.01MPa-0.15MPa,使用時(shí)會(huì )更加精確安全。

   5.當爐體溫度高于1000℃時(shí),爐管內不可處于真空狀態(tài),爐管內的氣壓需和大氣壓 相當,保持在常壓狀態(tài);

   6.高純石英管的長(cháng)時(shí)間使用溫度≦1100℃

   7.加熱的實(shí)驗時(shí),不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進(jìn)氣閥使用。若需要關(guān)閉氣閥對樣品加熱,則需時(shí)刻關(guān)注壓力表的示數,若氣壓表示數大于0.02MPa,必須立刻打開(kāi)排氣端閥門(mén),以防意外發(fā)生(如爐 管破裂,法蘭飛出等)


服務(wù)支持

1年質(zhì)保,提供終身支持(保修范圍內不包括易耗部件,例如爐管和密封圈等)。 


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