發(fā)布時(shí)間:2020-04-10 瀏覽次數:3022
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設備簡(jiǎn)介: 該產(chǎn)品是由固態(tài)等離子源、氣體質(zhì)子流量控制系統、襯底控溫系統、真空系統組成,采用集中總線(xiàn)控制技術(shù)的諾巴迪操作軟件。適用于室溫至1200℃條件下進(jìn)行SiO2、SiNx薄膜的沉積,同時(shí)可實(shí)現TEOS源沉積,SiC膜層沉積以及液態(tài)氣態(tài)源沉積其它材料,尤其適合于有機材料上高效保護層膜和特定溫度下無(wú)損傷鈍化膜的沉積。
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配置詳情
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1. 清洗鍍膜一氣呵成,杜絕二次污染; 2. 上開(kāi)啟式結構,方便觀(guān)察試樣; 3. 產(chǎn)品采用全自動(dòng)控制方式,觸摸屏,數字化顯示; 4. 設備一體化程度高; 5. 穩定的射頻電源,均勻的溫度分布,提高成膜質(zhì)量; |
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產(chǎn)品型號 |
NBD-PECVD1200-80TI |
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電氣規格 |
AC220V 4KW |
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可達溫度 |
1200 ℃ |
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連續溫度 |
1150 ℃ |
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可達加熱速率 |
≤ 20 ℃/分鐘 |
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射頻電源 |
500W 13.56MHz |
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爐管尺寸 |
Φ80*1200mm |
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沉積示意圖 |
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如圖所示:此為該設備沉積過(guò)程中的示意圖 |
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控制系統 |
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1.NBD-101EP嵌入式操作系統中英文互換圖形界面,7寸真彩觸屏輸入,智能式人機對話(huà)模式,實(shí)時(shí)加熱功率顯示,非線(xiàn)性式樣溫度修正;實(shí)驗報告自主生成,實(shí)驗數據無(wú)限次導出。 2.實(shí)驗過(guò)程更加直觀(guān),操作更加便捷; 3.具有超溫報警、斷偶提示、漏電保護等功能。 |
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溫度精度 |
+/- 1 ℃ |
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加熱元件 |
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Mo摻雜的Fe-Cr-Al合金 |
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密封系統 |
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真空度:≤10Pa(機械泵) |
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壓力測量與監控 |
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采用數顯真空計,可使設備真空度更加直觀(guān),實(shí)驗結果更加準確。 |
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供氣系統 |
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采用兩路質(zhì)子流量計精確控制氣體流速,與設備集成為一體; |
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凈重 |
360KG |
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設備使用注意事項 |
1. 設備爐膛溫度≥300℃時(shí),禁止打開(kāi)爐膛,避免受到傷害; 2. 設備使用時(shí),爐管內壓力不得超過(guò)0.125MPa(絕對壓力),以防止壓力過(guò)大造成設備損壞; 3. 真空下使用時(shí),設備使用溫度不得超過(guò)800℃。
4. 供氣鋼瓶?jì)炔繗鈮狠^高,向爐管內通入氣體時(shí),氣瓶上必須安裝減壓閥,建議在選購試驗用小壓力減壓閥,減壓閥量程為0.01MPa-0.15MPa,使用時(shí)會(huì )更加精確安全。 5.當爐體溫度高于1000℃時(shí),爐管內不可處于真空狀態(tài),爐管內的氣壓需和大氣壓 相當,保持在常壓狀態(tài); 6.高純石英管的長(cháng)時(shí)間使用溫度≦1100℃ 7.加熱的實(shí)驗時(shí),不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進(jìn)氣閥使用。若需要關(guān)閉氣閥對樣品加熱,則需時(shí)刻關(guān)注壓力表的示數,若氣壓表示數大于0.02MPa,必須立刻打開(kāi)排氣端閥門(mén),以防意外發(fā)生(如爐 管破裂,法蘭飛出等)
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服務(wù)支持 |
1年質(zhì)保,提供終身支持(保修范圍內不包括易耗部件,例如爐管和密封圈等)。 |
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