發(fā)布時(shí)間：2022-04-15 瀏覽次數：2921
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設備簡(jiǎn)介：
該PECVD系統配置高精度全封閉式液體氣化裝置，為表面薄膜沉積實(shí)驗提供包含有毒液體在內的氣化條件。系統由高穩定性射頻電源（200W，13.56MHz）、氣體流量控制系統及真空系統組成，采用NBD-101EP集中總線(xiàn)控制技術(shù)的諾巴迪操作軟件。利用等離子體特性來(lái)控制或影響氣相反應和材料表面的化學(xué)反應過(guò)程，并在適當的溫度下沉積薄膜。PECVD淀積的薄膜具有優(yōu)良的電學(xué)性能、良好的襯底附著(zhù)性以及極佳的臺階覆蓋性，正由于這些優(yōu)點(diǎn)使其在超大規模集成電路、光電器件、MEMS等領(lǐng)域具有廣泛的應用。
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配置詳情
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主要特點(diǎn)： 1. 集成液體氣化系統，可穩定提供包括有毒液體在內的反應氣體條件； 2. 清洗鍍膜一氣呵成，杜絕二次污染； 3. 上開(kāi)啟式結構，方便觀(guān)察試樣； 4. 產(chǎn)品采用全自動(dòng)控制方式，觸摸屏，數字化顯示； 5. 設備一體化程度高； 6. 穩定的射頻電源，均勻的溫度分布，提高成膜質(zhì)量； 7. 出色的電磁波屏蔽方案，高效、安全！ |
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設備型號 |
NBD-PE1200-80TID2FY |
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供電電源 |
AC220V 50/60HZ |
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控溫精度 |
±1℃ |
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| 觸摸屏尺寸 |
7英寸 |
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射頻頻率 |
13.56MHz |
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射頻功率輸出范圍 |
0-200W |
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沉積加熱額定功率 |
4.0KW |
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蒸發(fā)器額定功率 |
1.3KW |
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伴熱帶額定功率 |
75W |
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傳感器類(lèi)型 |
K型熱電偶 |
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沉積最高溫度 |
1200℃ |
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沉積額定溫度 |
1150℃ |
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蒸發(fā)器額定溫度 |
400℃ |
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伴熱帶額定溫度 |
150℃ |
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推薦升溫速率 |
≤10/min |
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沉積管徑 |
Φ80mm*1200mm |
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蒸發(fā)源管徑 |
Φ50mm*80mm |
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蒸發(fā)源有效容積 |
50ml |
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PECVD 外形尺寸 |
長(cháng)1500×高1280×深760mm |
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蒸發(fā)器外形尺寸 |
長(cháng)410×高350×深210mm |
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氣氛條件 |
混合氣、真空等 |
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機械泵抽氣速率 |
16 立方米每小時(shí) |
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爐腔極限真空度 |
3~5Pa |
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法蘭結構 |
航空鋁快開(kāi)模式； |
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操作系統 |
NBD-101EP集中總線(xiàn)控制集成系統，7"全觸摸屏操控，智能模糊PID 控制；智能式人機對話(huà)模式； |
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真空測試 |
數字真空計獲取裝置； |
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設備細節 |
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控制系統 |
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1、燒結工藝曲線(xiàn)設置：動(dòng)態(tài)顯示設置曲線(xiàn)，設備燒結可預存多條工藝曲線(xiàn)，每條工藝曲線(xiàn)可自由設置； 2、可預約燒結，實(shí)現無(wú)人值守燒結工藝曲線(xiàn)燒結； 3、實(shí)時(shí)顯示燒結功率電壓等信息并記錄燒結數據，并可導出實(shí)現無(wú)紙記錄； 4、具有實(shí)現遠程操控，實(shí)時(shí)觀(guān)測設備狀態(tài)； 5、溫度校正：主控溫度和試樣溫度的差值，燒結全程進(jìn)行非線(xiàn)性修正。 |
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部分界面 |
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凈重 |
約300KG |
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設備使用注意事項 |
1.射頻匹配器一般處于自動(dòng)匹配狀態(tài)，一般功率需達到50W以上才能匹配； 2.若采用手動(dòng)匹配，將功率設到60W左右，手動(dòng)調諧匹配合適時(shí)，再增加功率 |
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服務(wù)支持 |
一年有限保修，提供終身支持； |
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