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中科院新疆理化所

發(fā)布時(shí)間:2020-04-16  瀏覽次數:4279

中國科學(xué)院新疆理化技術(shù)研究所引進(jìn)了我公司設計生產(chǎn)的高真空CVD系統,研究所王老師對我們的產(chǎn)品和服務(wù)給予了充分的肯定!


CVD系統HR1200-110ITD3F

設備簡(jiǎn)介:

    化學(xué)氣相沉積(CVD)是指化學(xué)氣體或蒸汽在基質(zhì)表面反應合成涂層或納米材料的方法,是半導體工業(yè)中應用最為廣泛的用來(lái)沉積薄膜材料的技術(shù),包括大范圍的絕緣材料,以及大多數金屬材料和金屬合金材料。為此我們研發(fā)成套的CVD鍍膜系統,適用于各大高校材料實(shí)驗室、科研院所、環(huán)??茖W(xué)等領(lǐng)域;

 點(diǎn)擊此處了解設備詳情 


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