真空高頻感應熔煉爐
發(fā)布時(shí)間： 2025-05-29 00:55:35 瀏覽次數：297
此設備是一款精簡(jiǎn)版高真空感應熔煉&鑄造爐，可熔煉各種合金，最大熔煉量可達1kg(按Fe密度算），最高熔煉溫度可以達到2000℃，配有二次加料機構，可在真空或氣氛保護環(huán)境下進(jìn)行二次加料?？砂惭b高溫攪拌機構，可在氣氛環(huán)境下對熔煉樣品進(jìn)行高溫攪拌，使熔煉更加均勻。真空度可達10-3Pa(采用分子泵系統）。
| 設備特點(diǎn)： 1、可在保護氣氛下進(jìn)行金屬熔煉和鑄造 2、最大熔煉量可達1kg(按Fe密度算） 3、帶有手動(dòng)澆注功能，可在真空或氣氛保護環(huán)境下對樣品進(jìn)行澆注 4、配有二次加料機構，可在真空或氣氛保護環(huán)境下進(jìn)行二次加料 5、可安裝高溫攪拌機構，可在氣氛環(huán)境下對熔煉樣品進(jìn)行高溫攪拌，使熔煉更加均勻 | ||
設備型號 | VAHP2000-1KGTIDFY50L | ||
電源規格 | 15KW 380V | ||
二次加料機構 | 可實(shí)現三種不同材料依次加入到母液中 | ||
感應線(xiàn)圈 | Φ107*Φ92*84mm/Φ79*Φ62*72mm | ||
石墨坩堝 | Φ75*Φ59.5*105mm/Φ47*Φ35*88.5mm | ||
氧化鋁護套 | Φ88xΦ78x105mm/Φ58xΦ50x88.5mm | ||
二次加料機構 | 可實(shí)現三種不同材料依次加入到母液中 | ||
感應線(xiàn)圈 | Φ107*Φ92*84mm/Φ79*Φ62*72mm | ||
石墨坩堝 | Φ75*Φ59.5*105mm | ||
真空泵 | VRD-8 | ||
溫控系統(選配) | （儀表控溫） | ||
熱電偶(選配) | K型(400-1200度)/B型(800-1600度)/Φ58xΦ50x88.5mm/C型(800-1600度) | ||
機械攪拌機構（含控制系統，含BN攪拌槳）(選配) | 攪拌槳可上下升降 攪拌槳材質(zhì)：BN 轉速：0-200RPM（可調） | ||
氮化硼槳(選配) |
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水冷銅模(選配) | 標準規格：Φ25x80、Φ30x80、30x30x80、50x25x80（可定制規格） | ||
水冷設備(選配) | CW-6200系列 | ||
真空系統(選配) | NBD-103(B)分子泵系統 | ||
高溫攪拌機構 溫度控制系統 （選配） | 1、溫攪拌機構，可在氣氛環(huán)境下對熔煉樣品進(jìn)行高溫攪拌，使熔煉更加均勻 2、拌槳材質(zhì)：氮化硼 3、轉速：0-200rpm(可調）
4、可選配熱電偶嵌入在石墨坩堝壁內，用于測量和控制熔煉溫度，最高可測量溫度為2000℃ 5、采用PID方式調節溫度，可設置30段溫度段 6、溫速率：室溫～1000℃（1℃/秒）1000～1600℃（0.5℃/秒）控溫精度可達：±3℃ | ||
控制系統 |
| 1、燒結工藝曲線(xiàn)設置：動(dòng)態(tài)顯示設置曲線(xiàn)，設備燒結可預存多條工藝曲線(xiàn)，每條工藝曲線(xiàn)可自由設置； 2、可預約燒結，實(shí)現無(wú)人值守燒結工藝曲線(xiàn)燒結； 3、實(shí)時(shí)顯示燒結功率電壓等信息并記錄燒結數據，并可導出實(shí)現無(wú)紙記錄； 4、具有實(shí)現遠程操控，實(shí)時(shí)觀(guān)測設備狀態(tài)； 5、溫度校正：主控溫度和試樣溫度的差值，燒結全程進(jìn)行非線(xiàn)性修正。 | |
氣氛保護 | 1、此爐體設計可通入高純Ar氣，氣壓可達0.02MPa 設備上安裝有機械壓力表測試范圍為-0.1MPa-0.15MPa 設備上安裝有浮子流量計（0.2-2L/min）,用于調節進(jìn)氣流量 真空度：1Pa(采用機械泵），10-3Pa(采用分子泵系統） 標配含機械泵 | ||
水冷設備 | 設備中需要＞58L/min的水冷機進(jìn)行水冷（標配中不含水冷機，可在本司選購） | ||
服務(wù)與支持 | 一年有限保修，提供終身支持（保修范圍內不包括易耗部件，例如處理管和O形圈，請在下面的相關(guān)產(chǎn)品處訂購更換件）。
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主要應用領(lǐng)域
- 新材料研究
- 高性能合金：用于制備高溫合金、耐腐蝕合金等高性能材料，滿(mǎn)足航空航天、核能等領(lǐng)域的嚴格要求。
- 稀土金屬：適用于稀土金屬及其化合物的熔煉和提純，如釹鐵硼永磁材料等。
- 納米材料：支持納米級金屬粉末的合成，促進(jìn)新型催化劑、傳感器材料的研發(fā)。
- 冶金工業(yè)
- 精煉提純：在真空條件下去除金屬中的雜質(zhì)和氣體，提高金屬純度，適用于鈦、鉬等難熔金屬的精煉。
- 合金配方優(yōu)化：通過(guò)精確控制熔煉條件，探索新的合金配方，提升材料性能。
- 電子與半導體
- 芯片制造：為半導體行業(yè)提供高純度金屬靶材，支持集成電路制造工藝。
- 電子元件封裝：用于焊接后的助焊劑殘留物去除，確保電子元件的質(zhì)量和可靠性。
- 能源領(lǐng)域
- 電池材料：生產(chǎn)高性能電池材料（如鋰離子電池正負極材料），要求在無(wú)氧環(huán)境下進(jìn)行高溫處理。
- 太陽(yáng)能電池：用于制備太陽(yáng)能電池所需的高純度硅材料，提高光電轉換效率。
- 化學(xué)工程
- 催化劑制備：利用多溫區梯度加熱技術(shù)制備高性能催化劑，優(yōu)化其催化活性和選擇性。
- 化學(xué)反應研究：研究高溫條件下的化學(xué)反應動(dòng)力學(xué)和機理，特別是在腐蝕性氣體環(huán)境中。
- 科研實(shí)驗
- 高校與研究所：為研究人員提供可靠的實(shí)驗平臺，支持新材料、新工藝的研究與開(kāi)發(fā)。
- 實(shí)驗室小規模生產(chǎn)：適用于實(shí)驗室內的小批量樣品制備，滿(mǎn)足教學(xué)和科研需求。
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