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臥式氫氣還原爐

發(fā)布時(shí)間: 2025-02-04 21:50:29    瀏覽次數:1158

臥式氫氣還原爐是一種用于金屬氧化物還原的工業(yè)設備,廣泛應用于冶金、化工、電子材料等領(lǐng)域。該設備通過(guò)高溫氫氣環(huán)境,將金屬氧化物還原為純金屬或合金,具有高效、節能、環(huán)保等特點(diǎn)。臥式設計使得物料在爐內均勻受熱,適用于大規模連續生產(chǎn)。



產(chǎn)品詳情
應用領(lǐng)域
留言咨詢(xún)


設備特點(diǎn):

1、高效還原采用高溫氫氣還原技術(shù),還原效率高,能夠快速將金屬氧化物還原為純金屬或合金。

2、均勻加熱:臥式設計確保物料在爐內均勻受熱,避免局部過(guò)熱或欠熱,提高產(chǎn)品質(zhì)量一致性。

3、節能環(huán)保采用先進(jìn)的加熱和保溫技術(shù),能耗低,減少碳排放,符合環(huán)保要求。

自動(dòng)化控制:配備先進(jìn)的自動(dòng)化控制系統,實(shí)現溫度、壓力、流量等參數的精確控制,操作簡(jiǎn)便,減少人工干預。

4、安全可靠設備配備多重安全保護裝置,超溫報警、壓力保護等,確保運行安全可靠。

5、模塊化設計設備采用模塊化設計,便于安裝、維護和升級,適應不同生產(chǎn)需求。

6、廣泛應用適用于多種金屬氧化物的還原,如鐵、銅、鎳、鈷等,廣泛應用于冶金、化工、電子材料等領(lǐng)域。

7、長(cháng)壽命采用優(yōu)質(zhì)耐高溫材料制造,設備壽命長(cháng),維護成本低。

8、尾氣處理裝置 獨特的點(diǎn)火裝置不但可以使氫氣完全燃燒而且能防止外界空氣進(jìn)入爐管,大大提高了氫氣使用的安全性。

設備名稱(chēng)

氫氣還原爐

規格型號

NBD-VAH1200-20TIDFW

供電電源

220V 50HZ

額定功率

3.5KW

加熱元件

合金電阻絲

控溫精度

±1℃

傳感器類(lèi)型

K型熱電偶Φ1*500mm

Tmax

1200℃

額定溫度

1150℃

推薦升溫速率

≤10℃/min

浮子流量計

20-200ml/min

石英真空腔有效溫區尺寸

Φ190*220mm

雙層石英片尺寸

110*228*5mm 187*228*5mm

爐體尺寸

長(cháng)820×高1240×深640mm

重量

約110kg
設備細節

加熱元件




控制系統



1、燒結工藝曲線(xiàn)設置:動(dòng)態(tài)顯示設置曲線(xiàn),設備燒結可預存多條工藝曲線(xiàn),每條工藝曲線(xiàn)可自由設置;

2、可預約燒結,實(shí)現無(wú)人值守燒結工藝曲線(xiàn)燒結;

3、實(shí)時(shí)顯示燒結功率電壓等信息并記錄燒結數據,并可導出實(shí)現無(wú)紙記錄;

4、具有實(shí)現遠程操控,實(shí)時(shí)觀(guān)測設備狀態(tài);

5、溫度校正:主控溫度和試樣溫度的差值,燒結全程進(jìn)行非線(xiàn)性修正。

設備使用注意事項


1.設備使用時(shí),爐管內壓力不得超過(guò)0.15MPa(絕對壓力),以防止壓力過(guò)大造成設備損壞;

2.真空下使用時(shí),設備使用溫度不得超過(guò)1000℃。

3.供氣鋼瓶?jì)炔繗鈮狠^高,向爐管內通入氣體時(shí),氣瓶上必須安裝減壓閥,建議在選購試驗用小壓力減壓閥,減壓閥量程為相對壓力0.01MPa-0.15MPa,使用時(shí)會(huì )更加精確安全。

4.當爐體溫度高于1000℃時(shí),爐管內不可處于真空狀態(tài),爐管內的氣壓需和大氣壓相當,保持在常壓狀態(tài),防止腔體損壞;

5.高純石英管的長(cháng)時(shí)間常壓下的使用溫度≦1150℃;

6.加熱燒結時(shí),應打開(kāi)排氣端閥門(mén),避免加熱升溫時(shí)腔體壓力增大導致腔體破裂。若需要關(guān)閉氣閥對樣品加熱,則需時(shí)刻關(guān)注壓力表的示數,氣壓表壓力需在示安全范圍內若絕對壓力反向壓力≦0.05Mpa,或正向壓力≧0.15Mpa時(shí)必須立刻打開(kāi)排氣端閥門(mén),以防意外發(fā)生(如腔體破裂);

7.使用此設備進(jìn)行高溫燒結,必須連接水冷機才可進(jìn)行操作,以避免高溫密封硅膠圈融化。

8.慎重燒結含堿性離子的物料,堿性離子會(huì )對腔體造成析晶損或。

應用領(lǐng)域

1. 冶金:用于金屬粉末的還原和燒結。

2. 半導體制造:用于電子元件的制造和測試。

3. 材料科學(xué):用于新型材料的合成和處理。

4. 科研與教育:適用于高校、研究所等科研單位進(jìn)行材料科學(xué)、化學(xué)工程等領(lǐng)域的研究和教學(xué)實(shí)驗。

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