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雙爐膛滑軌式PECVD

發(fā)布時(shí)間:2020-07-25  瀏覽次數:3524

設備簡(jiǎn)介:

雙溫區的PECVD管式爐系統,組成部分為500W的射頻發(fā)生器、可定位的獨立滑動(dòng)式燒結爐、高精度質(zhì)量流量混合系統、穩定防反油真空系統。此款PECVD可用于生長(cháng)納米線(xiàn)或用CVD方法來(lái)制作各種薄膜。



                         

 

                            



配置詳情


主要特點(diǎn):

1. 清洗鍍膜一氣呵成,杜絕二次污染;
2. 上開(kāi)啟式結構,方便觀(guān)察試樣;
3. 產(chǎn)品采用全自動(dòng)控制方式,觸摸屏,數字化顯示;
4. 可通過(guò)爐體滑動(dòng)來(lái)達到快速升溫和快速降溫的效果;
5. 穩定的射頻電源,均勻的溫度分布,提高成膜質(zhì)量;

產(chǎn)品型號

NBD-PECVD1200-50T2-N

電氣規格

AC220V 3KW   射頻功率:300500 13.56Mhz

可達溫度

1200 ℃ (<1小時(shí))

連續溫度

1100 ℃ (連續)

可達加熱速率

20 /分鐘

加熱區長(cháng)度

200mm+200mm(兩個(gè)加熱溫區分別加熱,分體式設計使溫度梯度可以達到極限)

爐管尺寸

Φ50*1800mm

射頻線(xiàn)圈

 

采用多節點(diǎn)鍍銀的水冷銅線(xiàn)圈,可匹配不同頻率的射頻電源 

控制系統

1、燒結工藝曲線(xiàn)設置:動(dòng)態(tài)顯示設置曲線(xiàn),設備燒結可預存多條工藝曲線(xiàn),每條工藝曲線(xiàn)可自由設置;
2、可預約燒結,實(shí)現無(wú)人值守燒結工藝曲線(xiàn)燒結;
3、實(shí)時(shí)顯示燒結功率電壓等信息并記錄燒結數據,并可導出實(shí)現無(wú)紙記錄;
4、具有實(shí)現遠程操控,實(shí)時(shí)觀(guān)測設備狀態(tài);
5、溫度校正:主控溫度和試樣溫度的差值,燒結全程進(jìn)行非線(xiàn)性修正

控溫精度

+/- 1 ℃

加熱元件

Mo摻雜的Fe-Cr-Al合金

密封系統


真空度:≤10Pa(機械泵),達到啟輝條件。

壓力測量與監控

采用數顯真空計可直觀(guān)顯示設備的真空度,實(shí)驗數據及效果更加準確。

供氣系統

采用質(zhì)量流量計控制,與設備一體化,方便控制,出廠(chǎng)前已進(jìn)行漏氣測試工作。

凈重

100KG


設備使用注意事項

1.設備爐膛溫度≥300℃時(shí),禁止打開(kāi)爐膛,避免受到傷害;

2.設備使用時(shí),爐管內壓力不得超過(guò)0.125MPa(絕對壓力),以防止壓力過(guò)大沖開(kāi)密封法蘭;

3.高真空下使用時(shí)(10的負3次方Pa),設備使用溫度不得超過(guò)800℃。

服務(wù)支持

一年有限保修,提供終身支持;


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