發(fā)布時(shí)間:2020-07-25 瀏覽次數:3524
|
設備簡(jiǎn)介:
雙溫區的PECVD管式爐系統,組成部分為500W的射頻發(fā)生器、可定位的獨立滑動(dòng)式燒結爐、高精度質(zhì)量流量混合系統、穩定防反油真空系統。此款PECVD可用于生長(cháng)納米線(xiàn)或用CVD方法來(lái)制作各種薄膜。
|
|
|
|
配置詳情
|
主要特點(diǎn):
1. 清洗鍍膜一氣呵成,杜絕二次污染; |
|||
產(chǎn)品型號 |
NBD-PECVD1200-50T2-N |
|||
電氣規格 |
AC220V 3KW 射頻功率:300或500瓦 13.56Mhz |
|||
可達溫度 |
1200 ℃ (<1小時(shí)) |
|||
連續溫度 |
1100 ℃ (連續) |
|||
可達加熱速率 |
≤20 ℃/分鐘 |
|||
加熱區長(cháng)度 |
200mm+200mm(兩個(gè)加熱溫區分別加熱,分體式設計使溫度梯度可以達到極限) |
|||
爐管尺寸 |
Φ50*1800mm |
|||
射頻線(xiàn)圈 |
|
采用多節點(diǎn)鍍銀的水冷銅線(xiàn)圈,可匹配不同頻率的射頻電源 |
||
控制系統 |
|
1、燒結工藝曲線(xiàn)設置:動(dòng)態(tài)顯示設置曲線(xiàn),設備燒結可預存多條工藝曲線(xiàn),每條工藝曲線(xiàn)可自由設置; |
||
控溫精度 |
+/- 1 ℃ |
|||
加熱元件 |
|
Mo摻雜的Fe-Cr-Al合金 |
||
密封系統 |
|
|
||
真空度:≤10Pa(機械泵),達到啟輝條件。 |
||||
壓力測量與監控 |
|
采用數顯真空計可直觀(guān)顯示設備的真空度,實(shí)驗數據及效果更加準確。 |
|
|
供氣系統 |
|
采用質(zhì)量流量計控制,與設備一體化,方便控制,出廠(chǎng)前已進(jìn)行漏氣測試工作。 |
|
|
凈重 |
100KG |
|
||
設備使用注意事項 |
1.設備爐膛溫度≥300℃時(shí),禁止打開(kāi)爐膛,避免受到傷害; 2.設備使用時(shí),爐管內壓力不得超過(guò)0.125MPa(絕對壓力),以防止壓力過(guò)大沖開(kāi)密封法蘭; 3.高真空下使用時(shí)(10的負3次方Pa),設備使用溫度不得超過(guò)800℃。 |
|||
服務(wù)支持 |
一年有限保修,提供終身支持; |
免責聲明:本站產(chǎn)品介紹內容(包括產(chǎn)品圖片、產(chǎn)品描述、技術(shù)參數等),僅供參考??赡苡捎诟虏患皶r(shí),或許導致所述內容與實(shí)際情況存在一定的差異,請與本公司客服人員聯(lián)系確認。本站提供的信息不構成任何要約或承諾,諾巴迪公司不定期完善和修改網(wǎng)站任何信息,恕不另行通知。
相關(guān)產(chǎn)品
|
|||
|
|
|
|